L'Américain Micron Technologies prévoit d'investir jusqu'à 500 milliards de yens (3,6 Md$) pour introduire la lithographie par ultraviolets extrêmes (EUV) au Japon, ce qui en ferait la première entreprise à exploiter cette méthode de production dans le pays. L'EUV est utilisée dans la fabrication des semi-conducteurs les plus avancés et Micron prévoit d'utiliser des machines dotées de cette technologie pour fabriquer, dans son usine d'Hiroshima, la prochaine génération de mémoires dynamiques à accès aléatoire (DRAM), également connues sous le nom de puces 1-gamma. Précisons que les puces DRAM sont largement utilisées dans l'électronique pour leur capacité à fournir une mémoire de grande capacité à faible coût.

« Nous sommes fiers d'être les premiers à utiliser l'EUV au Japon et de développer et fabriquer des produits 1-gamma dans notre usine d'Hiroshima », a déclaré Sanjay Mehrotra, CEO de Micron. « Nos projets reflètent notre engagement continu envers le Japon, nos relations étroites avec le gouvernement japonais et les compétences de notre équipe locale ».

Stimuler la fabrication nationale de puces

En raison de la pénurie mondiale de puces et de l'escalade des tensions sur les semi-conducteurs entre les États-Unis et la Chine, qui a entraîné des restrictions généralisées sur les exportations de composants et des effets indirects dans un certain nombre de pays pris entre deux feux, de nombreux gouvernements, dont celui du Japon, tentent actuellement de stimuler leurs propres capacités de fabrication.

Le gouvernement japonais s'est déjà engagé à apporter un soutien financier important aux projets de développement et de fabrication de puces de nouvelle génération dans le pays. À l'image de l'accord signé avec Rapidus, visant à fabriquer des puces de 2 nm au Japon d'ici à 2025. Le projet a reçu 70 milliards de yens (532 M$) de subventions du gouvernement japonais et des investissements de Toyota, Sony et du géant des télécommunications NTT.

Micron investit massivement dans la construction d'usines aux Etats-Unis

La nouvelle de l'investissement de Micron dans la fabrication de puces au Japon intervient huit mois après que l'entreprise a annoncé qu'elle dépenserait 20 Md$ pour bâtir ce qu'elle présente comme la plus grande usine de semi-conducteurs jamais construite aux États-Unis. Ce site doit voir le jour dans le comté d'Onondaga, dans l'État de New York. Le mois précédent, Micron a donné le premier coup de pioche d'une usine de fabrication de mémoires près de son siège à Boise, dans l'Idaho.

Dans une déclaration faite à l'époque, le CEO de Micron, Sanjay Mehrotra, estimait que l'adoption du CHIPS and Science Act, un texte du gouvernement américain visant à renforcer la production de semi-conducteurs sur le territoire américain via notamment une subvention de 52 Md$, a permis de revitaliser cette industrie aux États-Unis, un pays qui a vu sa part de marché diminuer considérablement dans ce secteur au cours des dernières années.